Отмывка архитектурного чертежа. Порядок работы
Этапы работы
- Работа начинается с отделения света и тени на чертеже. Все затененные места чертежа покрываются раствором туши такой силы, чтобы про высыхании все покрытые тушью участки были несколько светлее самых светлых рефлексов в теневых местах чертежа. Это необходимо, чтобы не перетемнить чертеж.
- Вторая операция состоит в покрытии очень легким тоном, почти водой, всей поверхности данной детали, фрагмента или фасада. При этом нетронутыми остаются все ребра, которые находятся под непосредственным воздействием света, падающего на них под прямым углом, а также плоскости, на которые лучи света падают под углом 90 градусов или близким к нему.
- Затем вся поверхность чертежа делится на несколько основных планов в зависимости от их удаления в глубину, что видно по профилю и что необходимо предварительно изучить на эскизе. Первый план, расположенный ближе всего к зрителю, посылает в глаз больше отраженных лучей, чем планы, расположенные далее в глубину. Поэтому первый освещенный план изображается светлее остальных. Под словом «план» в данном случае следует понимать вертикальные поверхности, параллельные фасадной плоскости проекций.
- Вся поверхность детали, за исключением первого плана, покрывается таким же легким раствором туши, каким была покрыта вся поверхность чертежа. По высыхании поверхности чертежа первый план оказывается несколько светлее остальных, более глубоких.
- Продолжая работу далее, покрывают последовательно одним и тем же легким раствором планы, за исключением уже покрытых; каждый раз бумаге дают хорошо просохнуть. Не следует вводить слишком много планов, достаточно 5-7 основных, наиболее характерных. Все второстепенные, близко расположенные планы, следует объединять в один; их разделение (при необходимости), можно сделать в конце работы.
- Для упрощения работы покрытие легким раствором туши производят сразу на всех участках света и тени. Ребра, обращенные к источнику света, особенно на первом плане, стараются сохранить светлыми. После распределения степени освещенности на светлых планах переходят к работе над участками, находящимися в тени. Тени, расположенные на первом плане и на планах, ближайших к зрителю, изображаются более интенсивными, чем тени, находящиеся на более глубоких планах; последние изображаются более ослабленными и с меньшими подробностями в градациях.
- Это правило неприменимо в тех случаях, когда в теневых частях детали или фрагмента имеются относительно замкнутые пространства, как, например, промежутки между модульонами в карнизах. Эти промежутки следует тушевать темнее модульонов, хотя последние и находятся на ближнем плане. Так как замкнутые глубокие пространства в теневых частях слабее освещаются отраженными лучами. Это относится и к проемам, в которых раскрываются внутренние, затемненные помещения.
- Покрытие затененных поверхностей идет так же последовательно по планам, как и при тушевке освещенных поверхностей, но в обратном порядке. Последними покрываются тени самого близкого к зрителю плана.
- На всех ребрах детали, находящихся в тени и обращенных к источникам отраженного света, при покрытии теней необходимо оставлять тонкую полоску, чуть светлее тени. Это явлении наблюдается в натуре, и передача его способствует большему выявлению рельефности формы. Следует отметить, что светящиеся ребра детали в тени (как и на свету) будут различны по силе, то есть на передних планах они будут более светлыми, чем на планах, более глубоких.
Как делать архитектурную отмывку:
- Архитектурная отмывка – танцуют все! (одно, никому не нужное мнение)
- Материалы и общие рекомендации при работе в технике заливки
- Приемы заливки
- Общие положение при отмывке сложных объектов
- Отмывка архитектурного чертежа. Порядок работы
